Litografi ultraviolet ekstrim

Litografi ultraviolet ekstrim (bahasa Inggris: Extreme ultraviolet litography), dalam bahasa Inggris disingkat sebagai EUV atau EUVL, merupakan teknologi litografi optis yang digunakan dalam fabrikasi perangkat semikonduktor untuk membuat sirkuit terpadu (IC). Teknologi ini menggunakan panjang gelombang ultraviolet ekstrim yang mendekati 13,5 nm, menggunakan tetesan plasma timah (Sn), untuk menghasilkan suatu pola dengan menggunakan reflective photomask untuk meng-expose substrat yang tertutup oleh photoresist. Teknologi ini baru diterapkan dalam fabrikasi perangkat semikonduktor yang paling maju.

Hingga 2023, ASML Holding merupakan satu-satunya perusahaan yang memproduksi dan menjual sistem-sistem EUV untuk produksi cip.^[1]

Lihat pula[sunting | sunting sumber]

Oksidasi lokal silikon

Referensi[sunting | sunting sumber]

^ Tarasov, Katie (2022-03-23). "ASML is the only company making the $200 million machines needed to print every advanced microchip. Here's an inside look". CNBC (dalam bahasa Inggris). Diakses tanggal 5 Oktober 2023.

Pranala luar[sunting | sunting sumber]

Sistem litografi EUV di situs web ASML

Artikel bertopik teknologi ini adalah sebuah rintisan. Anda dapat membantu Wikipedia dengan mengembangkannya.

Artikel bertopik komputer ini adalah sebuah rintisan. Anda dapat membantu Wikipedia dengan mengembangkannya.

Artikel bertopik fisika ini adalah sebuah rintisan. Anda dapat membantu Wikipedia dengan mengembangkannya.

[1] Tarasov, Katie (2022-03-23). "ASML is the only company making the $200 million machines needed to print every advanced microchip. Here's an inside look". CNBC (dalam bahasa Inggris). Diakses tanggal 5 Oktober 2023.

[1]