Desain tata letak sirkuit terpadu

Artikel utama: Sirkuit terpadu dan Desain sirkuit terpadu

Desain tata letak sirkuit terpadu atau juga disebut sebagai topografi menjadi salah satu objek perlindungan kekayaan intelektual.

Dalam hukum kekayaan intelektual Amerika Serikat, desain tata letak sirkuit terpadu (bahasa Inggris: mask work) merupakan desain dua atau tiga dimensi dari sirkuit terpadu, yaitu susunan pada sebuah cip perangkat semikonduktor seperti transistor dan komponen elektronik pasif seperti resistor dan interkoneksi. Tata letak tersebut disebut mask work karena, dalam proses fotolitografi, beberapa lapisan terukir dalam sirkuit terpadu sesungguhnya masing-masing dibuat menggunakan metode photomask, yakni untuk merintangi atau mengarahkan cahaya di lokasi tertentu, terkadang untuk ratusan chip pada satu wafer secara bersamaan.

Desain tata letak sirkuit terpadu tidak dapat dilindungi menggunakan hukum hak cipta (kecuali sebagai seni dekoratif). Begitu juga, litografi mask work juga tidak dapat dilindungi secara efektif berdasarkan hukum paten, meskipun proses apa pun yang diterapkan dalam karya tersebut dapat dipatenkan. Semenjak 1990-an, pemerintah nasional telah memberikan hak eksklusif serupa hak cipta yang memberikan eksklusivitas terbatas waktu untuk reproduksi tata letak tertentu. Ketentuan hak sirkuit terpadu biasanya lebih pendek daripada hak cipta yang berlaku pada karya seni lukisan atau gambar.

Hukum internasional

Pada 1989, sebuah konferensi diplomatik diselenggarakan di Washington, D.C. yang kemudian menghasilkan Perjanjian tentang Hak Kekayaan Intelektual Sirkuit Terpadu, yang juga disebut Perjanjian Washington. Perjanjian tersebut ditandatangani di Washington pada tanggal 26 Mei 1989, serta terbuka bagi negara-negara anggota Perserikatan Bangsa-Bangsa (PBB), Organisasi Hak Kekayaan Intelektual Dunia (WIPO) dan organisasi antarpemerintah yang memenuhi kriteria tertentu. Perjanjian ini telah disertakan dalam Perjanjian TRIPS dari Organisasi Perdagangan Dunia (WTO), dengan beberapa perubahan: jangka waktu perlindungan setidaknya 10 (bukan delapan) tahun sejak tanggal pengajuan permohonan atau eksploitasi komersial pertama, tetapi negara anggota dapat memberikan jangka waktu perlindungan 15 tahun sejak penciptaannya; hak eksklusif pemegang hak juga meluas ke barang-barang yang memuat sirkuit terpadu dengan desain tata letak yang dilindungi, meski barang tersebut terus memuat desain tata letak yang digandakan secara tidak sah; keadaan saat desain tata letak boleh digunakan tanpa persetujuan pemegang hak serta batasannya; serta tindakan tertentu yang dilakukan tanpa sadar tidak akan merupakan pelanggaran.

Perjanjian Washington tidak berlaku pada saat ini, tetapi sebagian telah diintegrasikan ke dalam TRIPS.

Pasal 35 TRIPS dalam kaitannya dengan Perjanjian Washington berbunyi:

Setiap Anggota sepakat memberikan pelindungan terhadap desain tata letak (topografi) sirkuit terpadu (dalam Persetujuan ini disebut sebagai "desain tata letak") berdasarkan Pasal 2 sampai dengan Pasal 7 (selain Pasal 6 ayat 3), Pasal 12, dan Pasal 16 ayat 3 Perjanjian tentang Hak Kekayaan Intelektual Sirkuit Terpadu dan, sebagai tambahan, mematuhi ketentuan-ketentuan berikut...

Pasal 2 Perjanjian Washington memberikan pengertian umum berikut:

(i) 'sirkuit terpadu' adalah suatu produk dalam bentuk jadi atau setengah jadi, yang di dalamnya terdapat berbagai elemen dan sekurang-kurangnya satu dari elemen tersebut adalah elemen aktif, yang sebagian atau seluruhnya saling berkaitan serta dibentuk secara terpadu di dalam sebuah bahan semikonduktor yang dimaksudkan untuk menghasilkan fungsi elektronik. (ii) 'desain tata letak' adalah kreasi berupa rancangan peletakan tiga dimensi dari berbagai elemen, sekurang-kurangnya satu dari elemen tersebut adalah elemen aktif, serta sebagian atau semua interkoneksi dalam suatu sirkuit terpadu dan peletakan tiga dimensi tersebut dimaksudkan untuk persiapan pembuatan Sirkuit Terpadu ....

Berdasarkan Perjanjian Washington, setiap pihak penanda tangan berkewajiban untuk mengamankan, di seluruh yurisdiksinya, hak eksklusif atas desain tata letak sirkuit terpadu, baik yang sudah dimasukkan pada suatu barang atau tidak. Kewajiban tersebut berlaku terhadap rancangan tata letak yang asli, dalam arti bahwa rancangan tersebut merupakan hasil jerih payah pencipta, dan tidak lazim di kalangan pembuat rancangan tata letak dan produsen sirkuit terpadu pada saat pembuatannya.

Secara prinsip, bila dibandingkan dengan kekayaan intelektual lain, desain tata letak sirkuit memiliki objek pelindungan yang serupa dengan paten, desain industri, dan rahasia dagang.

Pihak penanda tangan harus menetapkan perbuatan-perbuatan ini sebagai perbuatan melawan hukum: penggandaan, impor, penjualan, atau distribusi desain tata letak sirkuit terpadu atau barang yang memuatnya tanpa izin untuk tujuan komersial. Namun, tindakan tertentu dapat dilakukan secara bebas untuk tujuan pribadi atau untuk tujuan evaluasi, analisis, penelitian atau pendidikan semata.

Peraturan perundang-undangan

Amerika Serikat

Kitab Undang-Undang Hukum Amerika Serikat (U.S.C.) mendefinisikan mask work sebagai "serangkaian gambar, tetap atau terkode, yang memiliki atau mewakili pola tiga dimensi yang telah ditetapkan sebelumnya dari bahan metalik, isolasi, atau semikonduktor yang ada atau dihilangkan dari lapisan produk cip semikonduktor, dan di mana hubungan gambar satu sama lain sedemikian rupa sehingga setiap gambar memiliki pola permukaan satu bentuk produk cip semikonduktor" [(17 U.S.C. § 901(a)(2))]. Hak eksklusif mask work pertama kali diberikan di Amerika Serikat oleh Undang-Undang Perlindungan Cip Semikonduktor Tahun 1984 (1984 Semiconductor Chip Protection Act).

Menurut 17 U.S.C. § 904, hak pelindungan mask work berlaku 10 tahun. Hal ini berbeda dengan jangka waktu 95 tahun untuk karya-karya berhak cipta modern yang dibuat oleh badan hukum; kasus pelanggaran hak cipta atas mask work tidak dilindungi penggunaan wajar menurut undang-undang, atau oleh pengecualian salinan cadangan yang lazim berlaku pada 17 U.S.C. § 117 mengenai perangkat lunak komputer. Meskipun demikian, karena penggunaan wajar dalam karya berhak cipta pada awalnya diakui oleh badan peradilan lebih dari seabad sebelum dikodifikasikan dalam Undang-Undang Hak Cipta 1976, ada kemungkinan bahwa pengadilan juga menemukan pembelaan serupa berlaku untuk mask work.

Simbol yang lazim digunakan dalam perlindungan mask work adalah Ⓜ (Unicode U+24C2/U+1F1AD atau entitas karakter numerik HTML Ⓜ/🆭) atau *M*.

Hak eksklusif pada mask work mirip dengan hak cipta: hak menggandakan dan mendistribusikan mask work atau sirkuit terpadu yang dibuat menggunakan mask work tersebut. Pemilik sah sebuah sirkuit terpadu yang memuat mask work bebas mengimpor, mendistribusikan, atau menggunakan, tetapi tidak boleh menggandakan cip (atau mask work) tersebut. Perlindungan mask work dianggap sebagai hak sui generis, yaitu hak yang diciptakan untuk melindungi hak-hak tertentu ketika undang-undang lain (yang lebih umum) tidak memadai atau tidak sesuai.

Perlu diketahui bahwa hak eksklusif yang diberikan kepada pemilik mask work lebih terbatas daripada pemegang hak cipta atau paten. Misalnya, modifikasi (ciptaan turunan) bukanlah hak eksklusif pemilik mask work. Demikian pula, hak eksklusif pemegang paten untuk “menggunakan” sebuah penemuan tidak akan melarang mask work yang dibuat secara independen dengan geometri yang identik. Lebih jauh lagi, penggandan untuk rekayasa balik suatu mask work diizinkan oleh undang-undang. Seperti halnya hak cipta, hak atas karya bertopeng timbul otomatis sejak diciptakan, tanpa memandang pencatatannya, tidak seperti paten, yang hanya memberikan hak setelah pengajuan, pemeriksaan, dan penerbitan.

Mask work memiliki lebih banyak kesamaan dengan hak cipta daripada hak eksklusif lainnya seperti paten atau merek dagang. Di sisi lain, penggunaannya diterapkan bersama hak cipta untuk melindungi komponen memori hanya baca (ROM) yang dikodekan untuk memuat perangkat lunak komputer.

Penerbit perangkat lunak konsol permainan video berbasis kartrid dapat mengajukan perlindungan simultan atas kekayaan intelektualnya berdasarkan beberapa konstruksi hukum:

• Pendaftaran merek dagang pada judul permainan, nama dunia, dan karakter yang digunakan dalam permainan (misalnya, PAC-MAN®);
• Pencatatan hak cipta pada program sebagai karya sastra atau pada tampilan audiovisual yang dihasilkan oleh karya tersebut; dan
• Pencatatan mask work pada ROM yang berisi kode biner.

Hukum hak cipta reguler berlaku untuk perangkat lunak (sumber, kode biner) dan karakternya serta karya seninya. Namun tanggal masa berlaku pelindungan untuk jangka waktu hak eksklusif lainnya dalam bentuk mask ROM akan bergantung pada interpretasi yang belum teruji dari persyaratan orisinalitas § 902(b):

(b) Pelindungan berdasarkan bab ini (yaitu, sebagai mask work) tidak berlaku untuk mask work yang—

(1) bukan orisinal; atau

(2) terdiri dari desain-desain yang merupakan hal yang sudah mendasar, umum, atau lazim dalam industri semikonduktor, atau variasi dari desain-desain tersebut, yang dikombinasikan sedemikian rupa sehingga, jika dilihat secara keseluruhan, bukanlah sesuatu yang orisinal.

(17 U.S.C. § 902, Hingga November 2010).

Dalam satu penafsiran, mask work yang memuat judul permainan tertentu bisa jadi sepenuhnya tidak orisinal, karena mask ROM secara umum mungkin berdasarkan pada desain yang familier, atau merupakan variasi kecil dari mask work untuk salah satu judul pertama yang dirilis untuk konsol di wilayah tersebut.

Negara lain

Undang-undang desain tata letak sirkuit terpadu telah ada di seluruh dunia:

• Undang-undang yang setara berlaku di Australia, India, Indonesia, dan Hong Kong.
• Undang-undang Australia menyebut mask work sebagai "tata letak yang memenuhi syarat".
• Di Kanada hak-hak ini dilindungi berdasarkan Undang-Undang Topografi Sirkuit Terpadu (1990, c. 37).
• Di Uni Eropa, hak desain sui generis yang melindungi desain tata letak sirkuit terpadu diperkenalkan oleh Arahan No. 87/54/EEC yang berlaku di semua negara anggota.
• India memiliki Undang-Undang Desain Tata Letak Sirkuit Terpadu Semikonduktor tahun 2000 untuk pelindungan serupa.
• Jepang memiliki "Undang-Undang Tentang Desain Tata Letak Sirkuit Terpadu".
• Brasil memberlakukan Undang-Undang No. 11484 Tahun 2007 untuk mengatur perlindungan dan pendaftaran topografi sirkuit terpadu.
• Swiss memiliki Undang-Undang Topografi Sirkuit Terpadu tahun 1992.

Lihat pula

• Perjanjian tentang Aspek-aspek Terkait Perdagangan Hak Kekayaan Intelektual (TRIPS)

Pranala luar

• Teks Perjanjian Washington tentang Perlindungan Desain Tata Letak Sirkuit Terpadu Diarsipkan January 21, 2012, di Wayback Machine.