Proses Czochralski

Dari Wikipedia bahasa Indonesia, ensiklopedia bebas
Langsung ke: navigasi, cari

Proses Czochralski digunakan untuk pemurnian suatu bahan dengan cara pengkristalan.

Bahan yang akan di kristalkan dimasukan ke dalam tempat yang sulit bereaksi dengan zat lain seperti quartz dan gas mulia argon. Contoh proses ini adalah pemurnian silikon yang nantinya akan dibuat wafer untuk Integrated Circuit (IC). Silikon yang akan dimurnikan dengan mengkristalkannya diletakkan di dalam tempat dari quartz dan dilelehkan. Sebuah silinder yang ujungnya terbuat dari kristal silikon dicelupkan kedalam lelehan silikon yang belum murni.

Silinder dengan ujung silikon murni tersebut di putar dengan sangat pelan ke arah atas yang suhunya lebih dingin. Dengan pendinginan secara pelan-pelan, pengkristalan akan terjadi dengan sempurna di bagian atas dan secara otomatis pengotor akan bergerak ke arah bawah. Pada akhir proses, pengotor akan tinggal di dalam wadah quartz dan silikon murni akan menjadi batang silinder yang memanjang.


Jika Anda melihat halaman yang menggunakan templat {{stub}} ini, mohon gantikan dengan templat rintisan yang lebih spesifik. Terima kasih.