Deposition

Dari Wikipedia bahasa Indonesia, ensiklopedia bebas
Langsung ke: navigasi, cari

Deposition atau pengendapan, pada proses mikrosistem adalah proses melapisi permukaan wafer dengan zat-zat tertentu. Deposition digunakan untuk berbagai macam tujuan seperti melindungi wafer, menjadi bahan untuk mask, membuat penghantar listrik, dan meletakkan komponen tertentu yang mungkin akan digunakan dalam komponen mikrosistem.

Deposition dapat dibagi menjadi tiga yaitu:

  1. Kimia/Chemical Vapor Deposition (CVD): panas, plasma, dan laser
  2. Fisika/Phisycal Vapor Deposition (PVD): penguapan, sputtering, pelapisan ion
  3. Cairan: pelapisan dengan arus listrik dan tanpa arus listrik (kualitas rendah)

Endapan yang timbul setelah proses ini, kemudian diukur dengan alat ellipsometer.